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第六十集
他旁边的那个考生年纪看起来特别小
顶多也就是个高一的样子
此刻正咬着笔杆对着这最后一道题发呆
卷子上大片的空白
现在的小孩儿都这么卷的吗
高一就来参加这种比赛
李东在心里吐槽了一句
随后收回了目光
看向试卷
前两问
李东提笔就写
一
求该光刻系统的最小分辨线宽
且由瑞利判据公式带入数据
拉姆达等于四百三十六纳米
Na 等于零点三五德耳塔零约等于零点七六微米
第二题
写出两种工业界常规的技术方案
并简述物理原理
这个阐述题其实考的是学生的知识面
如果你整天读死书
那还真不一定知道
不过在李东啃大物的时候
就有过了解相关的知识了
他甚至还专门在网上找了新闻来看
一个就是用缩短波长的方案
比如说使用duv 深紫外光之类的
原理也是很简单
就是拉姆达与德耳塔成正比
另一个就是增大数值孔径了
比如用浸墨式光刻
原理则是利用水等介质提高折射率n
从而增大na
前两题做完
李东停在了第三问上
第三题
请你基于高中物理波动光学干涉与衍射的核心知识
设计一种无需更换短波长光源
无需使用投影物镜即可突破上述锐利分辨极限的创新方案
李东摸了摸下巴
这不用透镜怎么成像啊
不用短波长怎么提高精度啊
李东脑海里瞬间闪过了好几个大学物理甚至前沿光学的方案
近场光学扫描
表面等离激元
不行
那些太超纲了
解释起来太麻烦
而且题目要求基于高中物理波动光学
很快他就想到了一个解法
用多次套刻曝光技术来实现精准平移掩膜
多次叠加曝光形成更细的线条
或者采用高对比度的光刻胶提升图案边缘的锐度
间接提升实际分辨能力
这样都可以
就在李东准备将答案写在试卷上时候
他突然被物理感知基础版影响了一下
想到了一个问题
这样的话是不是太脱离实际了
华轩科技可是一家企业
它是需要盈利的
不能用实验室的逻辑去考虑问题
必须要用工业化落地盈利的逻辑去考虑问题
于是李东停下了笔
开始了思考
要在生产约束内实现低成本
高稳定可量产的最优解
时间慢慢的过去
旁边那个高一的学生已经做完了这道实验题
他正心中感叹
果然这难度还不如学校自己出的题
嗯
就这个实验题还需要稍微费点心思
他叫乔凡
荣城七中的学生
这次来参加杯赛也是想看看外面的世界到底有多大
明年不来了
没意思
随即余光看到了一旁的李东
以及他还没动笔的实验题
哎
难怪老师说学霸与学霸之间亦有差距
随后便不再关注李东
开始检查试卷了
而此时
李东终于想到了一个切入点
他快速在试卷上写下方案名称
双光束激光干涉无掩膜光刻
这个方案的核心原理主要是基于波的干涉原理
他没有使用传统的透镜成像
而是利用两束光在晶圆的表面发生干涉
形成条纹
确定了核心
李东很快就将结论推导写了出来
设两束波长为拉姆达的相干光以入射角西塔对称照射晶圆
根据干涉极值条件
光程差德耳塔x 等于k 拉姆达时为量文
在空间几何关系中
干涉条纹的周期间距d 满足d 等于拉姆达比二sine 西塔
故最小线宽半周期为等于d 除以二等于拉姆达四sin 西塔
突破性验证
当西塔趋近九十度时
赛因西塔趋近一
此时理论极限可达拉姆达比四
对比传统瑞利极限空气na 小于一
该方案显然突破了传统极限
写完了推导
李东又简单的补上了实验步骤
分光棱镜分束大于反射镜对准大于干涉曝光
注解
虽然该干涉方案主要适用于周期性的图案的制备
但也可以作为先进制程中的特定层的低成本替代方案
在生产约束内实现良品率与成本的最优解